No preparo de um material semicondutor, uma matriz de silício ultrapuro é impurificada com quantidades mínimas de gálio, através de um processo conhecido como dopagem. Numa preparação típica, foi utilizada uma massa de $2,81\text{g}$ de silício ultrapuro, contendo $6,0\times {10}^{22}$ átomos de $Si$. Nesta matriz, foi introduzido gálio suficiente para que o número de seus átomos fosse igual a $0,01\%$ do número de átomos de silício. Sabendo que a massa molar do gálio vale $70\text{g/mol}$ e a constante de Avogadro vale $6,0\times {10}^{23}$, a massa de gálio empregada na preparação é igual a